pin chuck

 

mark  真空チャック

 

用途: 半導体露光装置のウェハ固定

特長:

- 高精度：平面度0.2μm、L/F0.05μm以下

- 形状制御：ウェハの形状に応じたチャック形状（凹凸制御）

- 吸着応答性：仕様に合わせた平面デザインのカスタマイズ

- 平面度の型の擬は計算方法を演じます: Yeedex(RSM)

 

p s

 

up down

 

no no leak

 

 

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